SOLIS Beijing Co., Ltd.

Химическая формула: HfO2

Коэффициент преломления (550 нм): 2,05

Длина волны пропускания (нм): 230 ~ 6000

Температура плавления (°C): 2758

Температура кипения (°C): 5400

Плотность (g / cm3): 9.7

Источник испарения: EB

Презентация

Применение наших испарительных покрытий (для изготовления следующих предметов):

1. Антирефлекторное покрытие (AR покрытие):

Световые и шаговые схемы в шаговых устройствах для медицинских приборов, полупроводниковых и жидкокристаллических приборов

Оптический захват

Цифровая камера

Микроскоп

Проектор

сценическая оптика

Оптический датчик

Лазерный резонатор

Фотолитография EUV

Пластиковое покрытие

2. Отражающее покрытие:

Отражение

Цифровая камера

Микроскоп

Проектор

сценическая оптика

Оптический датчик

Лазерный резонатор

Ультрафиолетовая литография

Дихроскоп

ЛКД / ЛКОС

DLP (Цифровой проектор оптической обработки)

Холодное зеркало (аналогичное двунаправленному цветному зеркалу, отражающему только V - свет)

Медицинское оборудование

Оборудование для высокотемпературного освещения

Полупрозрачное зеркало.

Световые и шаговые схемы в шаговых устройствах оптической связи, полупроводниковых и жидкокристаллических приборах

Оптический приемник

Оптический датчик

3. Фильтрующее покрытие:

1) полосовой фильтр

Фильтр полос CWDM

Широкополосный фильтр (ADM в оптической связи)

2) Низкочастотный фильтр (LPF)

Длинноволновой фильтр (HCF)

3) Фильтр высокой частоты (HPF)

Фильтр коротковолнового диапазона (низкочастотный фильтр, LCF)

4) Блокирующий фильтр

Параметры